無機(jī)光刻膠品牌 干膜光刻膠 Futurrex
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無機(jī)光刻膠品牌-干膜光刻膠-Futurrex

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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

店齡5年 企業(yè)認(rèn)證

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經(jīng)營模式

生產(chǎn)加工

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北京市大興區(qū)

主營產(chǎn)品

其他電工電氣輔材

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商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
膜厚 54μm
運輸方式 貨運及物流
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
可售賣地 全國
縱橫比 4.5
耐溫 150度
光刻膠型號 NR5-8000
報價方式 按實際訂單報價為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號 14135407
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




?Futurrex

提供先進(jìn)化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案

成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司

公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲

基于多樣化的技術(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機(jī)電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷

解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

客戶:從財富100強到以風(fēng)險投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司

使命

目標(biāo)

提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能

策略

提供獨特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程,以提高設(shè)備能效

領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價比

工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能

增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率

工藝減化

非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

在生產(chǎn)過程中,不含有害溶劑

支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功


光刻膠的未來市場

光刻膠市場需求逐年增加,2018年全球半導(dǎo)體光刻膠銷售額12.97億美元,而國內(nèi)光刻膠需求量方面,2011年光刻膠需求量為3.51萬噸,到2017年需求量為7.99萬噸,年復(fù)合增長率達(dá)14.69%。

國內(nèi)光刻膠需求量遠(yuǎn)大于本土產(chǎn)量,且差額逐年擴(kuò)大。由于中國大陸光刻膠市場起步晚,目前技術(shù)水平相對落后,生產(chǎn)產(chǎn)能主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品,TFT-LCD、半導(dǎo)體光刻膠等高技術(shù)壁壘產(chǎn)品產(chǎn)能很少。

想了解更多關(guān)于光刻膠的相關(guān)資訊,請持續(xù)關(guān)注本公司。



光刻膠的作用有什么?

光刻是將圖形由掩膜版上轉(zhuǎn)移到硅片上,為后續(xù)的刻蝕步驟作準(zhǔn)備。在光刻過程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經(jīng)紫外線曝光后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在通過顯影后,被曝光的光刻膠將被去除,從而實現(xiàn)將電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移到光刻膠上。再經(jīng)過刻蝕過程,實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。在刻蝕過程中,光刻膠起防腐蝕的保護(hù)作用。



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公司名稱 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 (QQ:214539837)
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傳真 㠖㠗㠖-㠛㠙㠙㠙㠒㠙㠗㠖
網(wǎng)址 http://www.semild.com
地址 北京市大興區(qū)