鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。

簡單地說，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

目前，(純度)濺射靶材按照化學成分不同可分為：

1）金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)

2）合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合等)

3）陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。

按開關不同可分為:長靶、方靶、圓靶。

按應用領域不同可分為：半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。