?SD-650MH高真空鍍膜儀是一款磁控濺射儀。擁有高真空度，可鍍多種金屬靶材、合金靶材、半導體靶材等。

產品特點

1、高真空磁控濺射儀要求穩(wěn)定，安全可靠，操作簡單便捷。適用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

2、 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、旋轉樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

3、高真空磁控濺射儀長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm） 可放于桌面，小巧不占空間。抽真空速度快，10分鐘可進入工作狀態(tài)。真空腔體采用直徑260mm×高270mm的金屬真空腔體，真空腔體上有多個備用標準接口，方便老師想進行其他實驗研究接入設備，后期可直接配備射頻濺射系統(tǒng)，方便老師后續(xù)想鍍半導體等材料。

4、前級機械泵抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器 ，后級抗沖擊渦輪分子泵采用抽速為300L/s。真空測量采用復合真空計監(jiān)測真空，極限真空度: 5×10^-5Pa。     

6、直流恒流電源輸入電壓為220V，輸出電壓為0-600v，輸出電流為0-1.6A ，沉積速率為0-200nm/min。電控帶鎖系統(tǒng)，防止無關人士誤操作。濺射定時保護裝置，防止濺射時間過長引起的樣品損壞。濺射磁控頭直徑為50mm。配備一塊厚度不小于0.2mm厚的金靶，方便產品到貨直接使用?；w溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

7、 樣品臺采用旋轉式樣品臺。直徑尺寸可選，最大不能超過φ150mm。

8 、采用自循環(huán)冷卻水機冷卻靶頭，保證靶頭壽命。

原理：

    濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。濺射時產生的快電子在正交的電磁場中作近似擺線運動，增加了電子行程，提高了氣體的離化率，同時高能量粒子與氣體碰撞后失去能量，基體溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

指標

品牌                        北京博遠微納科技有限公司                                                     

型號                        SD-650MH                                                                     

儀器主機尺寸:               長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm）                             

工作腔室尺寸：              金屬腔體：直徑260mm×高270mm（外尺寸 ）                                      

                                      直徑210mm×高270mm（內尺寸）                                       

靶材尺寸：                  直徑50mm×厚3mm（因靶材材質不同厚度有所不同）                                

靶材料：                    標配一塊直徑50mm×0.3mm的金靶 （可濺射弱磁性金屬膜）                        

控制方式                    觸摸屏控制                                                                   

靶槍冷卻方式：              水冷                                                                         

真空系統(tǒng)：                  抗沖擊渦輪分子泵，抽速為 300L/s                                              

前級機械泵：                抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器                                      

真空測量：                  采用復合真空計監(jiān)測真空                                                       

極限真空度:                 5×10^-5Pa（10分鐘可到5×10^-4Pa）                                             

電源：直流恒流電源：        輸入電壓：220V                                                               

                            輸出電壓：0-600v可調                                                         

                            輸出電流（沉積電流）：0-1.6A可調                                             

載樣臺：                    旋轉臺（直徑尺寸用戶可選，最大不能超過φ150mm  ）                            

工作氣體：                  Ar等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥）                                           

氣路：                      濺射真空度手動調整                                                           

沉積速率：                  0-200nm                                                                      

水冷：                      自循環(huán)冷卻水機                                                               

電源電壓：                  220V 50Hz                                                                    

啟動功率                    3KW                                                                          

保修                        貳年                                                                         

用途特點：

    高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬等新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。