光刻膠公司 干膜光刻膠品牌 高溫光刻膠公司 Futurrex
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商品參數(shù)
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商品介紹
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運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準
產(chǎn)品編號 12654109
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




光刻膠介紹

光刻膠介紹

光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性,其經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料,被廣泛應用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作。生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。


光刻工藝主要性一

光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復雜等特征,還需要相應光刻機與之配對調(diào)試。一般情況下,一個芯片在制造過程中需要進行10~50道光刻過程,由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等,不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣,即使類似的光刻過程,不同的廠商也會有不同的要求。

針對不同應用需求,光刻膠的品種非常多,這些差異主要通過調(diào)整光刻膠的配方來實現(xiàn)。因此,通過調(diào)整光刻膠的配方,滿足差異化的應用需求,是光刻膠制造商核心的技術。

此外,由于光刻加工分辨率直接關系到芯片特征尺寸大小,而光刻膠的性能關系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應。光刻分辨率與曝光波長、數(shù)值孔徑和工藝系數(shù)相關。



光刻膠的應用

光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應用。印刷工業(yè)是光刻膠應用的另一重要領域。

期望大家在選購光刻膠時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節(jié)疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話?。?!



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聯(lián)系賣家 況經(jīng)理 (QQ:214539837)
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