卷繞鍍膜設備詳情介紹

一、真空室

1、真空室體內徑Φ1000，內高H800，主體材料為SUS304不銹鋼焊接，頂底板

δ25mm，內圍板δ10mm，水套板δ6mm，真空室采用水套冷卻；

2、前開大切門，右手開門，前門置矩形觀察窗170mm×82mm，帶遮擋板；

3、內部轉架兩邊安裝加熱器。安裝于真空室內中間及四周；

4、真空室焊接水套冷卻，底進頂出，真空室冷卻采用直冷式水路循環(huán)；

5、采用下轉架，底部引入傳動機構與偏壓輸入端子；

7、于頂板后方置真空計預留口KF16×2個，用于安裝真空規(guī)管；

8、于真空室頂板上安裝熱電偶，于高閥上方安裝充氣閥；。

二、抽氣機組

1、粗抽泵 2X-70旋片泵，2臺

2、助力泵 RTO.600s羅茨泵，1臺

（羅茨泵出氣口選用底部法蘭口與粗抽泵連接）

3、分子泵 JTFB-3600，2臺

4、維持泵 2X-70旋片泵，1臺

5、粗抽管道與維持管道采用旁通閥連接

三、蒸發(fā)源配置

1、Φ100定向圓柱電弧靶二組（4套/組+4套/組，共8套）

2、氣動引弧機構，輔助陽極自動補償電壓回路、自動保護過電流系統(tǒng)

3、電弧靶靶材面至工件面初始距離250mm，標配鈦穩(wěn)弧≤60A。

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