真空鍍膜機設備分類

對于真空鍍膜機設備的分類，到底了解多少？

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。

基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，

并且沉積在基片表面，經歷成膜過程，形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設備、

磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。

夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。