鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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上海國(guó)產(chǎn)ICP
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溫度控制 控溫0.1度以?xún)?nèi)
檢測(cè)器類(lèi)型 大面積CCD光譜儀
測(cè)試范圍 165nm-950nm
光源類(lèi)型 固態(tài)光源
品牌 鋼研納克
商品介紹
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司是專(zhuān)業(yè)的ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè),主營(yíng)產(chǎn)品有: ICP光譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀,ICP光譜分析儀,全譜ICP,單道掃描ICP光譜儀,ICP-AES,ICP-OES等。源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,中國(guó)ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018《電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀》起草單位,懂ICP的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商。歡迎來(lái)電洽談
Plasma 3000型和Plasma 2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定工業(yè)硅中雜質(zhì)元素含量
關(guān)鍵詞
Plasma 3000,Plasma 2000,工業(yè)硅,耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng)
國(guó)家產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T2881-2014《工業(yè)硅》中規(guī)定,檢測(cè)工業(yè)硅中雜質(zhì)元素采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定。本實(shí)驗(yàn)參照標(biāo)準(zhǔn)GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第四部分:雜質(zhì)元素含量測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》測(cè)定工業(yè)硅中鋁、鉻、鈣、硼、銅、鐵、鎂、鎳、錳、磷、鈉、鈦的元素含量。對(duì)工業(yè)硅樣品進(jìn)行對(duì)比測(cè)試,檢測(cè)結(jié)果與客戶(hù)化學(xué)法基本一致。
儀器特點(diǎn)
Plasma 3000型和Plasma 2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司)是使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀,具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。
Plasma3000
? 高效固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
? 大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
? 多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀。
? 多種進(jìn)樣系統(tǒng),可選擇性好;
? 垂直炬管,雙向觀測(cè),檢出限更加理想;
Plasma2000
? 高效固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
? 大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
? 多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀;
? 多種進(jìn)樣系統(tǒng),可選擇性好;
? 垂直炬管水平觀測(cè),耐鹽性更佳。
樣品前處理
1. Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Mn、P、Na、Ti含量測(cè)定:
? 稱(chēng)取1g樣品,放置于250mL聚四氟乙烯燒杯,用少許水清洗杯壁并潤(rùn)濕樣品;
? 分次加入15mL~20mL氫氟酸,待反應(yīng)停止后加滴加硝酸至樣品完全溶解,然后加入3mL高氯酸,加熱冒高氯酸煙,待高氯酸白煙冒盡,取下冷卻。
? 加入5mL鹽酸和1mL硝酸,用少許水洗杯壁,加熱使殘?jiān)耆芙猓鋮s至室溫,轉(zhuǎn)移至50mL塑料容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻;
? 隨同做空白實(shí)驗(yàn)。
2. B含量測(cè)定
? 稱(chēng)取1g樣品,放置于250mL聚四氟乙烯燒杯,用少許水清洗杯壁并潤(rùn)濕樣品;
? 分次加入15mL~20mL氫氟酸,待反應(yīng)停止后,滴加硝酸至樣品完全溶解,過(guò)量1mL,待反應(yīng)停止后,加熱至近干(控制溫度低于140℃),取下冷卻;
? 加入5mL鹽酸和1mL硝酸低溫溶解殘?jiān)囟鹊陀?0℃),待樣品完全溶解后,冷卻至室溫,轉(zhuǎn)移至50mL塑料容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻。
? 隨同做空白實(shí)驗(yàn)。
注:
1) 工業(yè)硅中有些元素含量超低,使用試劑和水需要高純,器皿清潔;
2) 標(biāo)準(zhǔn)溶液配置時(shí)注意介質(zhì)干擾,建議P、Na、B單獨(dú)配置;
3) 測(cè)量時(shí),采用耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng);
4) 樣品溶解時(shí),氫氟酸用量較大,注意器皿采用聚四氟乙烯和塑料;
標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)配置
標(biāo)準(zhǔn)溶液配置時(shí),可以先配置100μg/mL混合標(biāo)準(zhǔn)溶液,配置時(shí)按下表1加入體積數(shù)配置曲線(xiàn)。
表1 標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)配置
注:
1) 標(biāo)準(zhǔn)溶液配置時(shí)注意介質(zhì)干擾,建議P、Na、B單獨(dú)配置,濃度梯度同上表;
2) 配置曲線(xiàn)時(shí),酸度和樣品保持一致;
元素分析譜線(xiàn)
實(shí)驗(yàn)考慮各待測(cè)元素譜線(xiàn)之間的干擾及基體干擾,并選擇合適的扣背景位置,經(jīng)實(shí)驗(yàn),本文選擇分析譜線(xiàn)如下表2所示。
表2 各元素分析譜線(xiàn)及線(xiàn)性系數(shù)
測(cè)試結(jié)果
1. 標(biāo)準(zhǔn)樣品測(cè)試結(jié)果、精密度與回收率
按照方法,測(cè)試了標(biāo)準(zhǔn)樣品金屬硅FjyJ0401,同時(shí)加入100微克做回收率實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表3所示?;厥章试?8.75%~106.93%,結(jié)果令人滿(mǎn)意。
表3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果、精密度和回收率(n=11)
2. 樣品比對(duì)實(shí)驗(yàn)
采用Plasma2000型和Plasma3000型儀器測(cè)量客戶(hù)考察樣品,與客戶(hù)化學(xué)法比對(duì),結(jié)果如表4所示。通過(guò)比對(duì),儀器測(cè)定值與化學(xué)法基本一致。
表4 結(jié)果比對(duì)
注:“-” 客戶(hù)未提供化學(xué)法檢測(cè)數(shù)據(jù)
結(jié)論
使用Plasma3000和Plasma2000能夠很好的解決工業(yè)硅中雜質(zhì)元素分析問(wèn)題,完全滿(mǎn)足國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T2881-2014《工業(yè)硅》和GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第四部分:雜質(zhì)元素含量測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》要求。
ICP光譜儀 的氣體控制系統(tǒng)是否穩(wěn)定正常地運(yùn)行,直接影響到儀器測(cè)定數(shù)據(jù)的好壞,如果氣路中有水珠、機(jī)械雜物雜屑等都會(huì)造成氣流不穩(wěn)定,因此,對(duì)氣體控制系統(tǒng)要經(jīng)常進(jìn)行檢查和維護(hù)。首先要做氣體試驗(yàn),打開(kāi)氣體控制系統(tǒng)的電源開(kāi)關(guān),使電磁閥處于工作狀態(tài),然后開(kāi)啟氣瓶及減壓閥,使氣體壓力指示在額定值上,然后關(guān)閉氣瓶,觀察減壓閥上的壓力表指針,應(yīng)在幾個(gè)小時(shí)內(nèi)沒(méi)有下降或下降很少,否則氣路中有漏氣現(xiàn)象,需要檢查和排除。第二,由于氬氣中常夾雜有水分和其它雜質(zhì),管道和接頭中也會(huì)有一些機(jī)械碎屑脫落,造成氣路不暢通。因此,需要定期進(jìn)行清理,拔下某些區(qū)段管道,然后打開(kāi)氣瓶,短促地放一段時(shí)間的氣體,將管道中的水珠,塵粒等吹出。在安裝氣體管道,特別是將載氣管路接在霧化器上時(shí),要注意不要讓管子彎曲太厲害,否則載氣流量不穩(wěn)而造成脈動(dòng),影響測(cè)定。
鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線(xiàn)密度平面全息光柵,Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
2 雙光柵設(shè)計(jì),整個(gè)波長(zhǎng)分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率,國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀設(shè)計(jì)。
3 高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
4 雙通道高靈敏PMT檢測(cè)器,寬動(dòng)態(tài)范圍信號(hào)處理技術(shù),具有優(yōu)異的檢測(cè)能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動(dòng)切換使用紫外PMT。
5 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程,為用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。
Plasma 3000型和Plasma 2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定工業(yè)硅中雜質(zhì)元素含量
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Plasma 3000,Plasma 2000,工業(yè)硅,耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng)
國(guó)家產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T2881-2014《工業(yè)硅》中規(guī)定,檢測(cè)工業(yè)硅中雜質(zhì)元素采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定。本實(shí)驗(yàn)參照標(biāo)準(zhǔn)GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第四部分:雜質(zhì)元素含量測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》測(cè)定工業(yè)硅中鋁、鉻、鈣、硼、銅、鐵、鎂、鎳、錳、磷、鈉、鈦的元素含量。對(duì)工業(yè)硅樣品進(jìn)行對(duì)比測(cè)試,檢測(cè)結(jié)果與客戶(hù)化學(xué)法基本一致。
儀器特點(diǎn)
Plasma 3000型和Plasma 2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司)是使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀,具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。
Plasma3000
? 高效固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
? 大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
? 多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀。
? 多種進(jìn)樣系統(tǒng),可選擇性好;
? 垂直炬管,雙向觀測(cè),檢出限更加理想;
Plasma2000
? 高效固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
? 大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
? 多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀;
? 多種進(jìn)樣系統(tǒng),可選擇性好;
? 垂直炬管水平觀測(cè),耐鹽性更佳。
樣品前處理
1. Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Mn、P、Na、Ti含量測(cè)定:
? 稱(chēng)取1g樣品,放置于250mL聚四氟乙烯燒杯,用少許水清洗杯壁并潤(rùn)濕樣品;
? 分次加入15mL~20mL氫氟酸,待反應(yīng)停止后加滴加硝酸至樣品完全溶解,然后加入3mL高氯酸,加熱冒高氯酸煙,待高氯酸白煙冒盡,取下冷卻。
? 加入5mL鹽酸和1mL硝酸,用少許水洗杯壁,加熱使殘?jiān)耆芙猓鋮s至室溫,轉(zhuǎn)移至50mL塑料容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻;
? 隨同做空白實(shí)驗(yàn)。
2. B含量測(cè)定
? 稱(chēng)取1g樣品,放置于250mL聚四氟乙烯燒杯,用少許水清洗杯壁并潤(rùn)濕樣品;
? 分次加入15mL~20mL氫氟酸,待反應(yīng)停止后,滴加硝酸至樣品完全溶解,過(guò)量1mL,待反應(yīng)停止后,加熱至近干(控制溫度低于140℃),取下冷卻;
? 加入5mL鹽酸和1mL硝酸低溫溶解殘?jiān)囟鹊陀?0℃),待樣品完全溶解后,冷卻至室溫,轉(zhuǎn)移至50mL塑料容量瓶中,用水稀釋至刻度,搖勻。
? 隨同做空白實(shí)驗(yàn)。
注:
1) 工業(yè)硅中有些元素含量超低,使用試劑和水需要高純,器皿清潔;
2) 標(biāo)準(zhǔn)溶液配置時(shí)注意介質(zhì)干擾,建議P、Na、B單獨(dú)配置;
3) 測(cè)量時(shí),采用耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng);
4) 樣品溶解時(shí),氫氟酸用量較大,注意器皿采用聚四氟乙烯和塑料;
標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)配置
標(biāo)準(zhǔn)溶液配置時(shí),可以先配置100μg/mL混合標(biāo)準(zhǔn)溶液,配置時(shí)按下表1加入體積數(shù)配置曲線(xiàn)。
表1 標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)配置
注:
1) 標(biāo)準(zhǔn)溶液配置時(shí)注意介質(zhì)干擾,建議P、Na、B單獨(dú)配置,濃度梯度同上表;
2) 配置曲線(xiàn)時(shí),酸度和樣品保持一致;
元素分析譜線(xiàn)
實(shí)驗(yàn)考慮各待測(cè)元素譜線(xiàn)之間的干擾及基體干擾,并選擇合適的扣背景位置,經(jīng)實(shí)驗(yàn),本文選擇分析譜線(xiàn)如下表2所示。
表2 各元素分析譜線(xiàn)及線(xiàn)性系數(shù)
測(cè)試結(jié)果
1. 標(biāo)準(zhǔn)樣品測(cè)試結(jié)果、精密度與回收率
按照方法,測(cè)試了標(biāo)準(zhǔn)樣品金屬硅FjyJ0401,同時(shí)加入100微克做回收率實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表3所示?;厥章试?8.75%~106.93%,結(jié)果令人滿(mǎn)意。
表3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果、精密度和回收率(n=11)
2. 樣品比對(duì)實(shí)驗(yàn)
采用Plasma2000型和Plasma3000型儀器測(cè)量客戶(hù)考察樣品,與客戶(hù)化學(xué)法比對(duì),結(jié)果如表4所示。通過(guò)比對(duì),儀器測(cè)定值與化學(xué)法基本一致。
表4 結(jié)果比對(duì)
注:“-” 客戶(hù)未提供化學(xué)法檢測(cè)數(shù)據(jù)
結(jié)論
使用Plasma3000和Plasma2000能夠很好的解決工業(yè)硅中雜質(zhì)元素分析問(wèn)題,完全滿(mǎn)足國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T2881-2014《工業(yè)硅》和GB/T14849.4-2014《工業(yè)硅化學(xué)分析方法第四部分:雜質(zhì)元素含量測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》要求。
ICP光譜儀 的氣體控制系統(tǒng)是否穩(wěn)定正常地運(yùn)行,直接影響到儀器測(cè)定數(shù)據(jù)的好壞,如果氣路中有水珠、機(jī)械雜物雜屑等都會(huì)造成氣流不穩(wěn)定,因此,對(duì)氣體控制系統(tǒng)要經(jīng)常進(jìn)行檢查和維護(hù)。首先要做氣體試驗(yàn),打開(kāi)氣體控制系統(tǒng)的電源開(kāi)關(guān),使電磁閥處于工作狀態(tài),然后開(kāi)啟氣瓶及減壓閥,使氣體壓力指示在額定值上,然后關(guān)閉氣瓶,觀察減壓閥上的壓力表指針,應(yīng)在幾個(gè)小時(shí)內(nèi)沒(méi)有下降或下降很少,否則氣路中有漏氣現(xiàn)象,需要檢查和排除。第二,由于氬氣中常夾雜有水分和其它雜質(zhì),管道和接頭中也會(huì)有一些機(jī)械碎屑脫落,造成氣路不暢通。因此,需要定期進(jìn)行清理,拔下某些區(qū)段管道,然后打開(kāi)氣瓶,短促地放一段時(shí)間的氣體,將管道中的水珠,塵粒等吹出。在安裝氣體管道,特別是將載氣管路接在霧化器上時(shí),要注意不要讓管子彎曲太厲害,否則載氣流量不穩(wěn)而造成脈動(dòng),影響測(cè)定。
鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線(xiàn)密度平面全息光柵,Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
2 雙光柵設(shè)計(jì),整個(gè)波長(zhǎng)分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率,國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀設(shè)計(jì)。
3 高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
4 雙通道高靈敏PMT檢測(cè)器,寬動(dòng)態(tài)范圍信號(hào)處理技術(shù),具有優(yōu)異的檢測(cè)能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動(dòng)切換使用紫外PMT。
5 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程,為用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。
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