PlasmaMS 300 的污染控制
在使用PLASMAMS 300進行分析的時候，必須盡可能控制污染。污染會導(dǎo)致數(shù)據(jù)出錯，其結(jié)果是 背景增高，從而導(dǎo)致檢出限提高。
污染來源： 1.實驗室環(huán)境：空氣中的塵埃（特別是Al）是常見的污染源。通過過濾、凈化空氣和高 效濾網(wǎng)（HEPA），降低污染源。
2. 水：去離子化系統(tǒng)生產(chǎn)的水其阻抗需達到18.2Mohm/cm。
3.試劑：應(yīng)用于樣品和標(biāo)品中酸、溶劑和鹽必須為高純度。移液管或其他器具不應(yīng)接觸試 劑容器。能小量分裝后用一次性移液器移取。
PLASMAMS 300使用的容器：FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 和 PP等應(yīng)先使用酸洗。 樣品制備：減少稀釋步驟，使用一次性塑料微量移液器頭（酸洗），在通風(fēng)櫥里面準(zhǔn)備。 要排查污染來源往往是漫長而艱難的工作。因此，建議用戶遵循“按部就班”的方式
(Step-by-step approach)來進行污染控制：
? 儀器背景(Instrument background)
? 水空白(Water blank)
? 酸空白(Dilute acid blank)
? 樣品空白(Sample preparation blank)
Step-by-step approach實際上是檢查實驗過程中用到的所有空白，來尋找污染的來源。 污染可存在于儀器、水、稀釋液、酸、試劑、樣品空白或儲存容器中。
污染也可能存在于標(biāo)樣母液中。下圖示例就是在Ca元素單標(biāo)溶液中存在著Ba和Sr的污染：
上圖中所展示的受到Sr和Ba污染的Ca標(biāo)液是AA級別的，用戶應(yīng)當(dāng)從正規(guī)供應(yīng)商處采購合適純度級別的標(biāo)準(zhǔn)樣品。

鋼研納克同時也是全球知名的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)提供商，都提供標(biāo)樣，很多是以混標(biāo)的形式包含了用戶要求濃度的多種元素，可以方便 地用于 PLASMAMS 300 分析。
此外您也可以從鋼研納克購買單標(biāo)---10,000/1,000 ppm的單標(biāo)母液。
但是，考慮到各個元素自身的物理化學(xué)特性，以及它們在酸中的穩(wěn)定性，或者它們與溶液 中其他元素的共存穩(wěn)定性等各種特性，在配置混標(biāo)的過程中必須格外小心。
當(dāng)配置自用的復(fù)合標(biāo)準(zhǔn)品時，應(yīng)注意
? 此外高濃度能降低分析元素的損失,如瓶壁吸附
? 不是溶液中所有的元素均需要達到10ppm的線性范圍
? 也要小心不要混合產(chǎn)生相互反應(yīng)的元素否則可能產(chǎn)生沉淀,如在S存在下的Ba。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過程中，請確認(rèn)您的去離子水系統(tǒng)能夠正常工作，一 般超純水的電阻率應(yīng)該在18.2 MΩ/cm左右。
? 在此過程中使用的試劑例如酸試劑，也應(yīng)該是純度的。
? 移液管(pipettes)或其他類似器具不能直接伸入試劑或母液容器里。
? 確保PLASMAMS 300的工作容器都是塑料的（例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP），盡量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
? 在制備標(biāo)樣或者樣品的過程中，盡量減少稀釋步驟。
? 應(yīng)當(dāng)使用經(jīng)過校準(zhǔn)的微量移液器（例如移液），并且使用一次性塑料頭。
? 應(yīng)當(dāng)在通風(fēng)櫥里面進行制備，以盡量避免空氣流通帶來的污染。
? 為了得到的檢出限，凡是在制備過程中會與標(biāo)樣或者樣品接觸的容器和 器具都應(yīng)當(dāng)在使用前經(jīng)過酸液浸泡。

PLASMAMS 300 在不同行業(yè)的應(yīng)用與干擾
地質(zhì)樣品通常難以消解。相比之下，激光消融幾乎不需要任何樣品制備，僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領(lǐng)域中，樣品多種多樣，質(zhì)譜分布范圍很廣，因此此類應(yīng)用為廣泛和復(fù)雜。在單 個礦物或樣品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金屬含量，又需要進行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在這類地質(zhì)樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質(zhì)的原始和進化 水沉積物和地下水

PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度：15℃～26℃，室內(nèi)氣溫變化每小時不超過3攝氏度，推薦室溫22℃；
2) 相對濕度：20～60%，無冷凝。濕度大的地區(qū)請配備除濕機；
3) Ar純度>99.996%，配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮氣壓力表，引入儀器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa，氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點火工作時用氣量15L/min；如果選配了He碰撞氣，請準(zhǔn)備He減壓閥及氣瓶一個，減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa，減壓閥后端接4mm管適配器，He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源：總供電三相五線(3相線，零線，地線)，額定電流40A以上；主機供電需要220V單相三線(火、零、地)供電，需要不帶漏電保護的兩線或3線的32A額定電流空氣開關(guān)一個。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h，在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請注意，這不是風(fēng)機的抽速要求)，建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥，以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無煙，無腐蝕性的環(huán)境下，無振動，不受陽光直射，遠離易燃易爆危險品；
7) 接地良好（接地電阻≤4Ω）。